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等离子清洗机-表面清洗、活化、刻蚀

简要描述:

等离子清洗机主要是通过气体放电产生等离子体,等离子体包含了离子、电子、自由基以及紫外线等高能量物质,具有活化材料表面的作用。真空等离子清洗机的作用主要是物理作用、交联作用和化学作用,通过这三种作用最终达到产品处理的效果。

更新时间:2022-06-02厂商性质:生产厂家浏览次数:83
品牌其他品牌产地类别国产
应用领域电子,印刷包装,汽车,电气,综合是否国产

金铂利莱等离子清洗机处理产品有很多技术优势


例如以下几点:

1、处理温度低

处理温度40℃~60℃,低的处理温度可以确保对样品表面不造成热影响。

2、处理全程无污染

环保设备,不产生任何污染,处理过程也不产生任何污染。

3、处理效率高,可实现全自动在线生产

样品表面只要经过很短的时间处理,一般2S以内便能达到效果。还能与原有生产流水线搭配,实现全自动在线生产,节约人力成本。

4、处理效果稳定

等离子清洗的处理效果非常均匀稳定,常规样品处理后较长时间内保持效果良好。

5、处理过程无需额外辅助的物品和条件

大气等离子清洗机只需要220V交流电和压缩空气气源即可!无需其它额外物品和条件。

6、运行成本低

全自动运行,可24小时连续工作,无需人工看管,运行功率可低至500W。

等离子清洗机-金铂利莱.jpg


等离子清洗机在半导体行业上的应用

 

简单来说等离子清洗机设备的主要作用就是提高产品表面的亲水性,粘接力和附着力,它不分材料、形状、材质,所以无论是哪个行业只要需要用到等离子清洗机,那么就一定会交出一个满意的答卷。

 

 

今天金铂利莱小编和大家一起来浅谈一下等离子清洗机在半导体行业上的应用:

因为随着半导体技术的发展,所以对工艺技术的要求也是越来越高,像半导体圆片的质量要求是十分的严格的,因为圆片表面上会有许多的颗粒和金属杂质,如果没有经过处理就会将材料损失掉,就会影响到对器件的成品率造成影响的。这里先列举几个半导体圆片上的污染杂质分类。

 

1、金属

半导体工艺中一般的金属杂质有锂、铁、铜、铝、铬等,主要来源是各种管道和化学试剂,所以半导体加工的过程中就会产生这些金属杂质。

 

2、颗粒物

这些都是主要吸附在半导体圆片上的污染物。

 

3、有机物

有机物的来源广泛,例如人的皮肤油脂、清洗溶剂、细菌等,这些污染主要是在圆片表面形成有机物从而导致圆片清洗不彻底,工艺得不到保障。

 

无论是半导体圆片上还是芯片上,还是其他行业上的材料上都会有一些细微的我们肉眼是看不到的污染物,这些污染物或多或少都会影响到我们的工艺技术,甚至有些没有进行处理时直接影响到产品的下一步工序或者是成品率。

 

随着半导体技术的发展,半导体圆片和半导体的其他材质的都需要经过一定的处理,那么等离子清洗机就起到了作用,等离子清洗机作为一种先进的干式清洗技术,不仅环保可持续发展,,处理效果也是十分满意的。等离子清洗机可以有效的处理掉半导体圆片上的污染物,并且可以对表面进行改性,提高其粘接力,是直接可以影响成品率的。还有大家都熟悉的芯片封装技术,都是离不开等离子清洗技术的,这是提高成品率的必不可缺失的。

 

像现在全球推动的电动汽车行业中的制造过程中许多粘接程序前都需要用到等离子清洗机,以致于能保证粘接度和密封度都达到合格。还有电子行业的PCB板、FPC柔性线路、LED封装等等。如果你有关于半导体行业或者其他行业的问题想咨询等离子清洗机,可以联系我们金铂利莱在线客服,也可以来现场来了解关于等离子清洗机的相关知识。

 

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