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半导体等离子处理机

更新时间:2021-07-23

简要描述:

金铂利莱半导体等离子处理机的工作流程是如何的呢?并且最终的主要目的就是为了改性半导体表面的性能,提高半导体表面的粘接力,有利于后续的工艺。

型号:vp100厂商性质:生产厂家浏览量:61
品牌其他品牌产地类别国产
应用领域医疗卫生,能源,电子,汽车,综合是否定制可定制

    OLED又叫有机电激光显示、有机发光半导体,具有优秀的图象质量,特别是在亮度以及对比度等方面,因此被广泛应用于彩色显示器。。近十年来,对OLED的研究得到广泛的关注,对未来的图象显示技术带来无法估量的冲击。OLED器件的性能与空穴注入过程有非常密切的关系,通过使用锡掺杂氧化铟(ITO)做OLED的阳极。

等离子处理OLED阳极金属(ITO)整体解决方案

    固体表面的结构和组成都与内部不同,处于表面的原子或离子表现为配位上的不饱和性,这是由于形成固体表面时被切断的化学键造成的。正是由于这一原因,固体表面极易吸附外来原子,使表面产生污染。因环境空气中存在大量水份,所以水是固体表面最常见的污染物。由于金属氧化物表面被切断的化学键为离子键或强极性键,易与极性很强的水分子结合,因此,绝大多数金属氧化物的清洁表面,都是被水吸附污染了的。

等离子处理机工作流程,金铂利莱科技

    等离子处理机如何进行工作,工作流程?

1、首先将被清洗的工件送入真空机并加以固定,启动运行装置开始排气,让真空腔内的真空程度达到10Pa左右的标准真空度。一般排气时间大约需要几分钟。


2、然后向真空室内引入等离子清洗用的气体,并保持腔内压强稳定。


3、在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,使气体被击穿并通过辉光放电而发生等离子化和产生等离子体,让在真空腔内产生的等离子体笼罩住被处理的工件并开始清洗作业,一般清洗处理持续几十秒到几十分钟不等,根据处理材质的不同而定。


4、清洗完毕后切断电源,并通过真空泵将气体和气化的污垢抽走排出,清洗结束。

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    将基片放在底座上,在真空系统中通入不同的混合气体,并在金属电极上家射频电压将气体电离,形成等离子体,以非常快的速度轰击ITO基片。为了形成较均匀的电场,电极采用金属栅网结构。等离子体的作用通常是改变表面粗糙度和提高功函数。研究发现,等离子作用对表面粗糙度的影响不大,只能使ITO的均方根粗糙度从1.8nm降到1.6nm,但对功函数的影响却较大。


    用等离子体处理提高功函数的方法也不尽相同。氧等离子处理是通过补充ITO表面的氧空位来提高表面氧含量的。氧同表面有机污染物反应生成CO2和H2O,去除了表面有机污染物。SF6通过在ITO表面形成一层含氟层来提高表面功函数,对粗糙度的改变不明显。Ar等离子处理是通过除区在装载基片过程中吸附的氧来清洁ITO表面的。



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