实验室等离子清洗机能把产品表面洗干净，一些精密电子产品的表面有我们肉眼看不到的有机物污染物，这些有机物会直接影响产品后序使用的可靠性和安全性。随着芯片集成密度的增加，对封装可靠性的要求也越来越高，而芯片与基板上的颗粒污染物和氧化物是导致封装中引线键合失效的主要因素。因此有利于环保、清洗均匀性好和具有三维处理能力的等离子清洗工艺技术成为了微电子封装中优先选择方式。
实验室等离子清洗机常见疑问解答：
1.等离子处理为什么要真空环境？
在真空环境产生等离子体主要有有两个原因：
①引入真空室的气体在压力环境下不会电离，在充入气体电离产生等离子体之前必须达到真空环境；
②另外，真空环境允许我们控制真空室中气体种类，控制真空室中气体种类对等离子处理体过程的可重复性是至关重要的。
2.等离子清洗处理效果可保持多长时间？
如处理表面保持干净和干燥，大多数等离子处理后效果可以保持大约48小时，但保持时间根据处理过程和产品存放环境而改变。如果需要更长时间保持处理效果，清洗完成后立即真空袋包装将延长保质期。
3.真空等离子处理是如何进行的？
要进行等离子处理产品，首先产生等离子体。单一气体或者混合气体被引入密封的低压真空等离子体室。随后这些气体被两个电极板之间产生的射频（RF）激活，这些气体中被激活的离子加速，开始震动。这种振动“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。在处理过程中，等离子体中被激活的分子和原子会发出紫外光，从而产生等离子体辉光。
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