随着科技的飞速发展,人们经济条件越来越好,生活品质的提高,各行业的生产已经普遍采用常压等离子清洗机的方法来解决表面亲和性问题,因此等离子表面技术逐渐被重视!
等离子体工艺是干法清洗应用中的重要部分,随着微电子技术的发展,等离子体清洗的优势越来越明显。常用的等离子体电源激发频率有三种:
激发频率40kHz的等离子体为超声等离子,发生的反应为物理反应,清洗系统离子密度较低;
13.56MHz的等离子体为射频等离子体,等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,离子密度和能量较高;
2.45GHz的等离子体为微波等离子体,离子浓度最高,反应为化学反应。
实际上,半导体生产中大多采用射频或微波等离子体清洗,而半导体后部工序用户用的等离子体清洗设备大多数采用由铝或不锈钢制造的方形、长方形金属箱体,电极为内置平行板状结构。
各等离子清洗机厂家针对不同的用户需求,设计制造了许多种不同结构类型、不同电源频率的清洗设备,各有所长,也就各有所短。选用等离子清洗机前要搞清楚待清洗工件特征,要清除掉的沾污物是什么,待清洗工件在清洗过程中应避免什么,是高温、晶格损伤、静电损伤还是二次污染等,通过试验结果确认、选购满足不同工件对等离子清洗不同要求的设备。