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晶片用等离子清洗机处理有什么影响吗?

发布时间:2021-05-07   点击次数:107次

等离子是什么状态?

  等离子体又叫电浆,英文名为plasma,它并非很神秘,等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态。物质由分子构成,分子由原子构成,原子由带正电的原子核和围绕它的、带负电的电子构成。当被加热到足够高的温度或其他原因,外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子,就像下课后的学生跑到操场上随意玩耍一样。

  电子离开原子核,这个过程就叫做“电离”。这时,物质就变成了由带正电的原子核和带负电的电子组成的、一团均匀的“浆糊”,因此人们戏称它为离子浆,这些离子浆中正负电荷总量相等,因此它是近似电中性的,所以就叫等离子体。

等离子体处理表面

等离子体去胶机处理晶片的影响

  等离子体可分为两种:高温和低温等离子体。现低温等离子体广泛应用于多种生产领域。

等离子处理

  在使用等离子去胶机(等离子清洗机)中,我们都知道,去胶气体为氧气。把需要清洗的晶片放入真空等离子去胶机反应系统中,受高频及微波能量效果,电离发生氧离子、游离态氧原子、氧分子和电子等混合的等离子体形成辉光柱。具有强氧化才能的游离态氧原子在高频电压效果下与光刻胶膜反应,最终完成。

  等离子去胶机的使用优势在于它使用操作相对简单,去胶率更高,表面也比较干净光洁无划痕,成本低,环保。

真空等离子去胶机-金铂利莱

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